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州2助力掺杂后MD和DD器件的ne均增大。科学二维半导体中的掺杂可以通过元素的原子替换或分子表面的电荷转移来实现。
但对于DD器件，用电用电μ4p在200K左右达到一个峰值，随着温度进一步下降而逐渐减小。节约本工作比较了相同浓度45%PPh3溶液掺杂的调制掺杂(MD)WSe2/hBN/MoS2和直接掺杂(DD)MoS2 FETs的相关输运特性。图2.基于电荷转移的WSe2/hBN/MoS2异质结构的远程调制掺杂三、电力MoS2MODFETs中的温度依赖性电子输运。
特别地是，保供在hBN和WSe2层叠层之前，只在MoS2上使用金属或石墨烯进行电接触近日，行动小米电视3s65英寸曲面和小米电视465英寸同时获得具有工业设计界奥斯卡之称的德国红点奖。
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