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欢迎大家到材料人宣传科技成果并对文献进行深入解读，电领投稿邮箱:[email protected].投稿以及内容合作可加编辑微信：cailiaorenVIP。（DOI:10.1016/j.scib.2020.01.025）图4两步法将PbBr2前驱体膜转化为Cs-Pb-Br膜的过程示意图半导体光催化剂中带边工程中点缺陷的抑制目前，跑世光催化和光电化学反应对光能的利用率较低，跑世其机理尚不清楚。相关研究以DefectEngineeringinSemiconductors:ManipulatingNonstoichiometricDefectsandUnderstandingTheirImpactinOxynitridesforSolarEnergyConversion为题目，中国发表在AFM上。
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